Atomic Layer Deposition (原子層堆積法)
Picosun社ALDリアクター

ALDアトミックレイヤーデポジション(原子層堆積法)とは

アトミックレイヤーデポジション (ALD) は、1974年フィンランドの Dr. Tuomo Suntola により発明されました (当時の呼称は Atomic Layer Epitaxy)。Dr. Suntola はこの発明により、SEMICON EUROPE 2004 にて SEMI 2004 award を受賞しています。Dr. Tuomo Suntolaは現在 Picosun 社の相談役として、Picosun 社 ALD リアクターの技術サポートをしています。

(SEMI 2004授賞式
写真左 SEMI CEO Mr. Stanley T. Myers、
写真右 Dr. Tuomo Suntola、
Semicon Europa 2004ミュンヘンにて)
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(写真左 1978年当時の Sven Lindfors と ALD リアクター、写真右 同氏現在)

Dr. Tuomo Suntolaと共に1975年より ALD リアクターの開発に携わったのが現在 Picosun 社 CTO を務める Sven Lindfors です。Picosun 社の ALD リアクターは実に30年以上にも渡る研究開発成果の結晶であり、申請されたパテントは100以上に及び、蓄積されたノウハウの全てが注ぎ込まれています。

Picosun 社は現在、北欧最大の国立研究所 VTT (ヘルシンキ) の Micronovaビル内にオフィスを持っています。
VTT やヘルシンキ大学研究室等の ALD 研究者と連携する事により、プリカーサーケミストリーや製膜プロセスにおいても適切なアドバイスが可能です。