仕様
光学系
光源 固体レーザー
波長:532nm(他の波長のレーザーも可能です)
出力:15mW、20mW、50mW

SPRの場合は685nm、25mW半導体レーザーを使用
単色光分光器

46干渉フィルター (分光エリプソメーターEP3に使用)
波長範囲360 - 1000nm、バンド幅±6nm
単色光分光器

単色光分光器
対物レンズ
倍率 開口数NA 分解能 視野 画角
10 x 0.21 2um 0.4mm 90度
20 x 0.35 1um 0.2mm 90度
偏光子 Glan-Thomson
入射角 40 - 90度
機械系
自動ゴニオメーター

ゴニオメーターはソフトウェアで自動制御する事ができます。EPScript マクロ言語を使用する事により、多入射角測定を自動で行なう事も可能です。回転軸にはペアリングや機械的な取り付け具を使用していません。

自動ゴニオメーター

この機構によりゴニオメーターのデザインによって試料サイズが制限されることはありません。

角度範囲 : 40 - 90
度角度分解能 : 0.001
度角度の絶対精度 : 0.01
度動作速度 : 可変、約5度/秒より

偏光子動作精度 モーターによる回転動作分解能 : 0.001度
Z軸リフト EP3 BAMをLB膜作成装置と一緒に使用する場合、界面での下層液の蒸発を感知し、BAMの高さを自動調節します。
自動サンプルステージ 自動ゴニオメーター

X,Y,Z自動制御
移動範囲 : 90mm(X / Y)、10mm(Z)
再現性 : 1um(X / Y)
分解能 : 1um(X / Y)
操作はワイヤレスジョイスティックで行なう事ができます。

自動サンプル
アライメント機能
ALS
(Automatic Alignment Stage)
自動サンプル

サンプル真上のカメラに切り替わり、レーザーの反射光スポットが表示されます。水平方向のサンプルステージ角度を自動調節する事ができます。操作はワイヤレスジョイスティックで行なう事ができます。自動/マニュアルサンプルステージどちらとも組み合わせる事ができます。
精度 : 0.01度
分解能 : 0.001度(最小ステップ)

自動サンプル
マニュアルサンプル
ステージ
マニュアルサンプルステージ

X,Y,Z手動制御
移動範囲 : 100mm(X / Y)、12mm(Z)
分解能 : 0.001度

画像処理
CCDカメラ 画素数 : 768 x 572
フォーカススキャナー フォーカススキャナー

スライダーを動かしシャープな画像に合わせる事ができ、視野全体で焦点の合った画像が得られます。

画像ファイル png, jpg, bmp, TIFF
ソフトウェア
ユーザーインター
フェース
EP3 Viewグラフィカルユーザーインターフェース
スクリプト言語 マクロ言語EP3スクリプトにより複雑な操作を簡素化しています。
マッピング 3Dマッピング機能。
マッピング
誘電関数モデル Cauchy, Lorentz, FourBloom, Bruggemann, etc.
制御系
PC Windows、17” TFTモニター
専用100メガビットのイーサネットを介してホストパソコンと通信します。
エレクトロニクス 装置内にLinux 動作オペレーティングシステムを搭載しています。
Pentiumコントローラー及びMatrox Meteor IIフレームグラバーを使用。
ユーティリティー
電 源 交流100〜240VAC,  50 / 60Hz,  10A
Δ/Ψ測定精度(エリプソメーター)
  相対誤差 絶対誤差 精度(測定間再現性)
SiO2 / Si (0-25nm)

9% @ 10nm

3% @ 20nm
0.8nm

0.004nm
0.004°Delta

0.002°Psi
SiO2 / Si (50nm) 2% 1nm 0.01nm
SiO2 / Si (100nm) 1% 1nm 0.01nm
Au基板 / 有機薄膜(10nm以下)

n/a

(No certified reference sample)

n/a

(No certified reference sample)

0.005 nm
0.003°Delta

0.004°Psi
屈折率 (100nm, SiO2 / Si) 0.5% 0.01 0.0001

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  EP3BAM MicroBAM
レーザー 532 nm (20mW / 50mW) 662 nm (30mW)
対物レンズ 長距離作動レンズ
NA 0.21又は0.35
標準レンズ
視野 0.44mm又は0.22mm 3.6 x 4.8 mm2
方位分解能 2 μm又は1 μm 8 μm
スキャナー
PC制御 可(firewire)
角度範囲 45°−90°(自動) 52°−54°(固定)
Z軸リフト
画像処理ソフトウェア
固体サンプルへの適用 不可
イメージングエリプソメーターへの
アップグレード
不可

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